高精密单面光刻机

基本信息

厂家：成都鑫南光机械设备有限公司

型号：G-25X

主要应用

本设备是专门针对各大专院校及科研单位对光刻机的使用特性研发的一种高精密单面光刻机，它主要用于微流控芯片、中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件的研制和生产。

主要功能特点

1. 适用范围广

适用于Φ100mm以下，厚度5mm以下的各种基片(包括非圆形基片)的对准曝光。

2. 结构

具有气浮式找平机构和可实现真空硬接触、软接触、微力接触的真空密着机构；具有真空掩膜版架、真空片吸盘。

3. 操作简便

采用翻板方式取片、放片；按钮、按键方式操作，可实现真空吸版、吸片、吸浮球、吸扫描锁等功能，操作、调试、维护、修理都非常简便。

4. 可靠性高

采用进口电磁阀、按钮、定时器；采用独特的气动系统、真空管路系统和精密的机械零件，使本机具有非常高的可靠性。

5. 特设功能

除标准承片台外，还可以为用户定制专用承片台，来解决非圆形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分离不开所引起的版片无法对准的问题

等离子清洗机

基本信息

厂家：美国Harrick

型号：PDC-002

主要应用

PDC-002等离子清洗机是一种小型化、超清洗设备。该款等离子体表面处理仪采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。这款等离子体表面处理仪外接一台真空非破坏性的泵，工作时等离子体表面处理仪的清洗腔中的等离子体会轻柔冲刷被清洗物的表面。等离子清洗机短时间的清洗就可以使有机污染物被彻底地清洗掉，同时污染物被等离子体表面处理仪的真空泵抽走，并且清洗程度达到分子级。

该设备能处理塑料、生化材料、PDMS、玻璃或金属半导体、陶瓷、复合材料、高分子聚合物等材料，并对所处理的材料表面带来表面超洁净、杀菌、提高湿润性转变、表面性质改变、提高结合力等处理效果。

主要功能特点

1. 主要特征：台式设计，结构紧凑精致；设备辐射小，安全环保。

2. 功率档：低档716V DC、10mA DC、7.16W；中档720V DC、15mA DC、10.15W；高档740V DC、40mA DC、29.6W。

3. 清洗舱：长6.5英寸，直径6英寸；舱盖具备铰链和磁力锁，并有一个可视窗口。

4. 常用工作气体：空气、氩气、氮气或混合气体等

应用举例

★ 微流控分析芯片制作

★ 器官芯片制作

联系方式

孙老师：sundp@gdpu.edu.cn